Patentmuster- die patente Masche


Halbpatent ist eine Abwandlung des 1:1 Rippenmusters. Es eignet sich gut für große Größen, denn das Gestrick geht stark in die Breite. Dicke Jacken, Pullis und Mützen aus diesem Muster sind sehr beliebt.

Vollpatent ist hingegen wiederum eine Abwandlung des Halbpatents und ergibt ein noch kompakteres Gestrick - es geht auch mehr in die Breite.

Aufgrund dieser Eigenschaften ist das Gestrick nicht sehr formstabil und es eignet sich eigentlich nur als Flächenmuster mit dünnen und sehr leichten Garnen.